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 米Mentor Graphics Corp.は,LSIのマスク・レイアウト検証ツール「Calibre」の次期版について発表した(リリース文)。これまでの回路抽出やLVS(layout versus schematics)などの機能に,OPC(optical proximity correction:光近接効果補正)や位相シフトのサポート機能,製造容易性のチェック機能を新たに加えた。Mentor社によれば,Calibreの次期版は一部ユーザが先行して使用中という。

 そのユーザのなかには,米AMD社(Advanced Micro Devices, Inc.)や日立製作所が含まれる。リリース文には日立のHagiwara氏(director of design Technology Development Department, Semiconductor & Integrated Circuits Group),AMD社のFred Weber氏(vice president of engineering)がコメントを寄せている。

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