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 新興企業の米CADexterity社は,同社のマスク・レイアウト・ツール「UFO Design-Driven Layout System2.0」がベータ・テスタの段階に入ったと発表した。このツールは,Spiceネットリストまたは同社の回路図エディタで作成した回路図を入力すると,LSIのマスク・レイアウト・ツールを生成する。設計者自らポリゴンを使って描画した場合と同じ程度の品質を出すために,設計ルールを遵守した上での素子の結合や折り畳み,折り曲げ,分割などの機能を備えるという。既存のマスク・レイアウト・ツールに比べて6~10倍の生産性向上が期待できると説明している。