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 東芝と大日本印刷は,半導体フォトマスク事業で提携したと発表した(東芝リリース文,大日本印刷リリース文)。2000年3月をメドに,両社共同出資による製造合弁会社を設立する。資本金は約5億円で,大日本印刷が65%,東芝が35%出資する。

 今回の提携の骨子は以下の通り。東芝は,現有するフォトマスク製造部門を製造合弁会社に移管し,その後3年間は新会社で作られたフォトマスクは大日本印刷を通じて,全量東芝へ供給される。また,2000年3月より0.13μm以下のフォトマスク製造のい関する技術を共同開発する。さらに,東芝がもつ0.15μmクラスのフォトマスク技術を大日本印刷にライセンス供与する。大日本印刷は,同技術をフォトマスク製造へ適用し,販売することでマスク事業全体の強化を図る。一方,東芝は半導体事業に専念する。

 新会社の社名や代表者,所在地などは未定。製造部門は,現在フォトマスクの製造を行っている東芝の「マイクロエレクトロニクスセンター(川崎市)」内と東芝のグループ会社である「岩手東芝エレクトロニクス」内でそれぞれ引き続き製造を行なう予定。

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