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 米Gartner, Inc.が半導体業界の設備投資予測を修正した。2007年の業界全体の設備投資額は前年比4.1%増の436億7330万米ドル,2008年は同0.3%増の437億9630万米ドルになる見込みとする。2007年7月に発表した前回予測では,2007年は前年比2.7%増,2008年は同6.2%増としていた(Tech-On!関連記事)。メモリ分野などで投資が前倒しで行われているため,2007年の投資額は前回予想より膨らみ,それに伴って2008年分は減少している。

 投資額を工程別にみると,2007年に前年実績を上回るのはウエハー処理工程向けだけで,組み立て工程向け,試験向けの投資は前年割れとなっている。ウエハー処理工程向けの成長をけん引しているのはメモリ分野だ。DRAMとNAND型フラッシュ・メモリの製造プロセスを90nm世代や65nm世代に移行するのに積極的な投資が行われており,ウエハー処理工程向け装置への投資の1/2以上をメモリ分野が占めているという。

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