PR

 米Avant! Corp.は,同社の3次元プロセス/デバイス・シミュレータ「Taurus」のバージョン・アップ情報などを公開した(リリース文)。まず,最新版の1999.2の主な追加機能として,(1)「拡散における損傷と非晶質化」,(2)「イオン打ち込みにおけるモンテカルロ解析」,(3)「回路とデバイスの混合モード・シミュレーション」,(4)SEU(single event upset)における過渡的振る舞い」などを紹介した。次期版(1999.4)は,2000年の早い時期に公表予定という。

 また,リリース文には,Taurusのユーザとして東芝とベルギーIMECがコメントを寄せている。東芝は,Takako Okada氏(research scientist in the Advanced LSI Techology Laboratory),IMECはWim Schoenmaker氏(group leader for TCAD, Silicon Technology and Device Integration Division)である。