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　米Cadence Design Systems, Inc. と米Numerical Technologies(NumeriTech), Inc. は，複数年の数百万米ドルの契約を結んだと発表した（Cadence 社リリース文，NumeriTech社リリース文）。この契約の下，NumeriTech社はCadence社に，OPC（optical proximity correction）マスク作成用ツールの技術や，LSIマスク・レイアウトの製造上の問題点を探るツール「SiVL」（EDA Online関連記事）の技術などをライセンス供与する。両社は共同で，これらの技術をCadence社のレイアウト設計／検証ツールに統合する。

　マスク・レイアウト検証の分野では，競合する米Avant！ Corp.や米Mentor Graphics Corp.は早い時期から，OPC用ツールの技術を買収などにより取得した。今回のライセンス契約で，Cadence社は２社に追いつく形となる。