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　米Intel社と大日本印刷は， LSIの製造に用いるフォトマスク技術を共同開発中であると発表した(Intel社リリース文，大日本印刷リリース文）。Intel社が2001年に出荷予定の0.13μmルールのLSIに向ける。大日本印刷は，開発成果をもとに Intel社以外の半導体メーカにフォトマスクを販売する。大日本印刷は，1999年12月にフォトマスク技術で東芝と提携したばかり（EDA Online関連記事）。1999年6月には日立製作所からフォトマスク部門の譲渡を受けた（関連記事）。