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 米Mentor Graphics Corp.は,LSIのマスク・レイアウト検証/最適化ツール「Calibre」をNECが導入したと発表した(英語リリース文日本語リリース文)。リリース文には,NECのKazuhiko Takamizawa氏(System LSI Design Engineering Div. Design Systems Department)がコメントを寄せている。NECは,階層データを扱えるマスク・レイアウト検証ツールをいくつか検討し,Calibreを主力ツールとして採用することにした。CalibreのOPC(Optical Proximity Correction)機能と,設計スタイルに依存しない点を評価したという。