PR

 米ASML MaskTools, Inc.は,米Avant! Corp.を訴えたと発表した(リリース文)。ASML MaskTools社(ホームページ)は,オランダASML(ASM Lithography Holding N.V.,ホームページ)の完全子会社で,LSIマスクの最適化に使うEDAツールなどを開発・販売する。リリース文によると,両社間で合意した和解条件をAvant!社が遵守しないため,今回告訴したという。ASML MaskToolsが同社のOPC(optical proximity correction)技術に関する米国特許を侵害しているとして,Avant!社を訴えた訴訟に対して,この和解が1999年2月に成立したと説明している。

 対象となった特許は二つある。一つの特許の番号はUS5,242,770で,タイトルは「Mask for photolithography」,成立は1993年9月7日。もう一つの特許の番号はUS5,447,810でタイトルは「Masks for improved lithographic patterning for off-axis llumination lithography」,成立は1995年9月5日。