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　日本電気硝子は，「FPD International 2008」（10月29日～31日，パシフィコ横浜）において，50μm厚に薄化した無アルカリのガラス基板を出展した。既存のTFT液晶パネル用ガラス基板と同じ物性で，製造方法もTFT用ガラス基板と同じオーバーフロー法によって作成した。展示では，ロール状に巻くことで，フィルムのような薄さを強調している。

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