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 日本電気硝子は,「FPD International 2008」(10月29日~31日,パシフィコ横浜)において,50μm厚に薄化した無アルカリのガラス基板を出展した。既存のTFT液晶パネル用ガラス基板と同じ物性で,製造方法もTFT用ガラス基板と同じオーバーフロー法によって作成した。展示では,ロール状に巻くことで,フィルムのような薄さを強調している。

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