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 「FPD International 2008」フォーラムの2日目に「Si系半導体材料に対する挑戦者」と題して酸化物半導体材料と素子技術に関して,三つの世界トップ・レベルの研究機関からの講演があった(セッションB-23)。酸化物半導体材料は,「高移動度TFT」「低オフ電流TFT」「BTSに強いTFT」「低温プロセス」の4点をすべて兼ね備える潜在能力を持つと言えよう。応用分野についての明言は聞かれなかったが,アクティブ・マトリクス駆動有機ELパネルへの適用を念頭に置いた材料開発であり,デバイス開発であるとの印象を受けた。まだまだ“挑戦者の資格”無しか!

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