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 米D2S, Inc.は2009年1月12日(米国時間),同社が手掛けるEB直描向けLSI設計環境「design-for-e-beam(DFEB)」に関して,ドイツのEB装置メーカーVistec Electron Beam GmbHおよびフランスの研究開発機関CEA/Letiと協業すると発表した(ニュース・リリース)。

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