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 富士フイルムは,有機ELディスプレイや太陽電池などの分野で研究/開発が進むフレキシブル電子デバイスに不可欠な水蒸気バリア性と透明性を持つ次世代材料「超ハイバリア性透明フィルム」を開発した。

 同社が開発した超ハイバリア性透明フィルムは,10-6g/m2・dと高いレベルでの水蒸気バリア性能を持つ。同社が,写真フィルムやフラットパネルディスプレイ材料などの研究開発で培った有機材料の知見と膜質/膜厚制御技術から,バリア性能に影響を及ぼす欠陥を防ぐ成膜技術を完成させた。加えて,量産化に必要なロール・ツー・ロール方式での成膜技術も確立した。

 同成膜技術は,透明性や耐屈曲性を持つPET(ポリエチレンテフタレート)やPEN(ポリエチレンナフタレート)といった各種ベースフィルムにバリア層を成膜することが可能。次世代の電子デバイスとして期待されるフレキシブルな有機ELディスプレイや電子ペーパ,有機EL照明/薄膜太陽電池などでは,軽量化が難しいガラスや金属に代わる基幹材料として,耐屈曲性や透明性,薄型・軽量などフレキシブル性能を併せ持つ高機能フィルムに期待がかかっている。高機能フィルムには,電子デバイスの素子性能を劣化させ耐久性を損なう原因となる外部からの水蒸気を防ぐために,高いバリア性能を持たせることが課題であった。

 2009年2月18~20日に東京ビッグサイトで開催予定の「国際ナノテクノロジー総合展」に同フィルムを展示する。加えて,さまざまな分野での用途開発を目的とした本格的なサンプル提供を開始する。

連絡先:富士フィルム 産業機材部
電話:03-6271-3007
専用E-Mail:superbarrier@fujifilm.co.jp