米Brion Technologies Inc.，a division of ASMLと米Cymer Inc.は共同で，Cymerの半導体露光装置用レーザー光源のスペクトル特性をBrionの計算機リソグラフィ・モデルに反映させることで，同モデルの精度を大幅に高められることを実証した。Brionはこの成果を，2009年半ばまでに同社の計算機リソグラフィ・ツールに全面的に導入する。
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