米Brion Technologies Inc.,a division of ASMLと米Cymer Inc.は共同で,Cymerの半導体露光装置用レーザー光源のスペクトル特性をBrionの計算機リソグラフィ・モデルに反映させることで,同モデルの精度を大幅に高められることを実証した。Brionはこの成果を,2009年半ばまでに同社の計算機リソグラフィ・ツールに全面的に導入する。
この記事は会員登録で続きをご覧いただけます
-
会員の方はこちら
ログイン -
登録するとマイページが使えます
今すぐ会員登録(無料)