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 リソグラフィに関する最大の国際会議である「SPIE Advanced Lithography」が,2月23日から米国San Jose市のSan Jose Convention Centerで開催されている。例年,テクニカル・セッションに2000人,展示会を含めると4000人を超える参加者を集める国際会議だが,急激な景気後退の影響で参加者が大幅に減少した。事前登録者数は2008年2月開催の前回に比べて半減したという。ただし,初日の基調講演の参加者数は前年比30%程度の減少に見えた。

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