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 フルフィールドEUV露光装置の開発が進んでいる。デバイス・プロセス実証用の試作機(オランダASML社の「ADT(Alpha Demo Tool)」とニコンの「EUV1」)は,既にユーザー・サイト(ベルギーIMECと米College of Nanoscale Science and Engineering(CNSE)of the University at Albany,および半導体先端テクノロジーズ(Selete))に納入され,デバイス試作に使われている。今回,露光装置メーカー各社が,試作機の性能向上や量産用EUV露光装置の開発に関する成果を発表した。

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