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「PV Foil」の寸法は125mm×125mm×20μm。手で容易に曲がる。
「PV Foil」の寸法は125mm×125mm×20μm。手で容易に曲がる。
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 米Silicon Genesis Corp.は2009年3月4日,20μm厚と非常に薄い単結晶Siのフレキシブル基板「PV Foil(太陽電池箔)」を,削りくずをほとんど出さずに製造する技術を開発したと発表した。同社は2008年7月に50μm厚のSiウエハーの製造技術を開発している(関連記事)。今回,厚さを20μmにまで薄くしたことから,「Siウエハーでもなく,薄膜技術でもない新しい形状の仕様」(同社)として,「箔」としたという。

 製造技術の名前は,50μm厚のSiウエハーの場合と同じ「PolyMax」。「(厚さが1~2μmの)薄膜技術には,Siの使用量が少ないという長所,単結晶Siウエハーには高効率という長所がある。20μm厚の箔型太陽電池は両者の長所を合わせ持つ」(同社)とする。