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 米Mentor Graphics Corp.は,マスク・レイアウト改良向けEDAツール「Calibre YieldEnhancer」とCMPモデル生成とシミュレーションを行う「Calibre CMP Analyzer」の日本での販売に注力する。IDMが多い日本では,CMPシミュレータ用のモデルをユーザーの手元で作成できる機能を前面に押し出す。同社によれば,既存の市販シミュレータでは,モデル作成をEDAベンダーに依頼しなければならないため,準備に手間がかかっていた。CMP工程は生産立ち上げ後も頻繁に改良されることが多く,CMPモデルを使ったシミュレーションはあまり普及していないという。同社は,45nmや32nmといった半導体設計プロセスでは高さ方向バラつきを抑えるためにCMPシミュレーションが不可欠になると見込んでいる。

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