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 東京大学生産技術研究所 教授の平川一彦氏らは,ヒューズやフィラメント,LSI中の配線などの金属線に大きな電流が流れた際に断線する「エレクトロマイグレーション」現象の原子レベルでの機構を解明したと発表した。同氏らが微細な金属線を使って実験したところ,ある一定の電圧(臨界電圧)を超えると電子が金属線から一つずつ外れることが分かったという。エレクトロマイグレーションは,これまでジュール熱によって金属が溶ける,あるいは電子の衝突によって金属原子が移動する(電子風効果)によって起こると考えられており,断線するかどうかは電流密度に依存するとみられていた。

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