米D2S, Inc.は，22nm世代以降のLSI製造に使う露光マスクを従来に比べて低コストで作る手法を「SPIE Advanced Lithography 2010」で発表した。曲線を多く含むOPC（補助）パターンの描画に円形の電子ビームを使うことにより，マスク・パターンの描画に要するショット数を低減する。今回，この手法に必要となるEDAツールとして，OPCパターンを円形ビームのショットに分解（flucturing）するソフトウェアを開発した。マスク描画用EB露光装置を手掛ける日本電子（JEOL）と共同で，このツールの有用性を検証中である。メモリーやロジックLSIの製造において，「既存のArF露光を延命していち早く22nm世代を量産化するための手段となる」（D2S，Chairman＆CEOのAki Fujimura氏）。
この記事は会員登録で続きをご覧いただけます
-
会員の方はこちら
ログイン -
登録するとマイページが使えます
今すぐ会員登録（無料）
日経クロステックからのお薦め
次世代の車載ネットワークの最新動向をオンラインセミナーで解説
トヨタ、ホンダ、BMW、デンソー、コンチネンタルなど、国内外の講師を招聘、毎年人気のイベントを今年も開催。
DXブームは既に腐り始めている――。人気コラム「極言暴論」「極言正論」の筆者が、日本企業や行政のDXの問題点をずばり指摘する。経営者から技術者までDXに取り組むすべての人の必読書！
あなたの専門知識や経験を生かして、「日経クロステック」の記事や書籍の企画、取材・執筆・編集を担う編集記者（正社員）にトライしませんか。編集の経験は問いません。コミュニケーション能力が高く、企画力や実行力があり、好奇心旺盛な方を求めています。