22nm以降のLSI製造用マスクを円形ビームで描画する技術，JEOLとD2Sが実機での評価結果を発表

米D2S, Inc.と日本電子（JEOL)は，22nmノード以降の先端フォトマスクの描画時間を短縮することを目的に技術提携したと発表した。両社は提携による最初の成果を4月13-15日にパシフィコ横浜で開催の「Photomask Japan 2010」の学会部門や，同じ場所で4月14日に行った記者説明会で発表した。