PR

米D2S, Inc.と日本電子(JEOL)は,22nmノード以降の先端フォトマスクの描画時間を短縮することを目的に技術提携したと発表した。両社は提携による最初の成果を4月13-15日にパシフィコ横浜で開催の「Photomask Japan 2010」の学会部門や,同じ場所で4月14日に行った記者説明会で発表した。

この記事は会員登録で続きをご覧いただけます

日経クロステック登録会員になると…

新着が分かるメールマガジンが届く
キーワード登録、連載フォローが便利

1/31まで日経電子版セット2カ月無料


日経クロステックからのお薦め

初割 電子版セット 2カ月無料