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MRAM技術を開発する米Grandis社は、「UT-DMTJ」(Ultra Thin-Dual MTJ)と呼ぶ新型MTJ素子を開発した。面内磁化方式を採用する。米国Arizona州Scottsdaleで開催中の磁気技術関連の国際会議「56th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials(MMM)」で発表した。

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