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 九州大学 大学院 システム情報科学研究院 情報エレクトロニクス部門 准教授の浜屋宏平氏らの研究グループは、これまで実現が難しいと考えられていた、p型Ge基板上にメタル・ソース/ドレインを形成する技術を開発した。これによってGeチャネルを用いたnMOSを実現できる可能性があり、すでに開発が進められているGe-pMOSと組み合わせればGe-CMOSを実現できるという。新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の若手研究者向け研究助成事業「若手研究グラント」の一環として開発した(ニュース・リリース)。

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