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 米Intel社は、2011年末までに22nm世代のマイクロプロセサの量産を始める。同社がこの技術世代で業界に先駆けて導入するのが、「Tri-gate(トライゲート)」と呼ぶ3次元構造のMOSトランジスタである。電流が流れるチャネル部が魚の背びれ(フィン)のような立体形状をしていることから、一般に“フィンFET”と呼ばれる。フィンFETを最初に提唱したのが日本人技術者だということを、ご存じだろうか。日立製作所 中央研究所 エレクトロニクス研究センタ 主管研究員の久本 大(ひさもと だい)氏らのグループだ。同氏らが1989年のIEDM(International Electron Devices Meeting)で発表した“DELTA(デルタ)構造”の立体トランジスタが、フィンFETの先駆けである。久本氏はこの業績により、平成23年度(第11回)の山崎貞一賞を受賞した。山崎貞一賞は、半導体や材料、バイオテクノロジーなどの分野で、先駆的な業績を残した日本人に与えられる賞である。久本氏に、フィンFETの提唱に至った経緯や、CMOSの微細化の将来展望について聞いた。

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