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米D2S Inc.は、マスク描画用データを生成する(いわゆるMDP:mask data preparation)システムの新製品「TrueMask MDP」を発売した。20nm以降の複雑なマスクでも短時間に描画できるようなデータを生成できることが特徴である。同社によれば、既存のMDPシステムに比べてマスク描画時間を20~30%以上短縮できるという。

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