PR

 米D2S社は、電子ビームを使ったマスク描画装置メーカーである、ニューフレアテクノロジーとのパートナーシップを拡張したと発表した(日本語ニュース・リリース)。D2Sは、半導体製造向けマスクの描画用データ生成ツールの開発・販売を行っている。

 両社は2011年に技術提携した(Tech-On!関連記事1)。今回、パートナーシップ拡張の一環で、ニューフレアはD2Sへの出資を決めた(詳細は未公表)。また、ニューフレアは、D2Sの露光シミュレータ「TrueMask DS」(同2)を導入した。このシミュレータはマスクの露光とウエハーの露光の両方を一括して扱え、GPGPU(general purpose graphical processing unit)を備えた専用コンピュータ上で稼働する。

 ニューフレアは、このD2S製品を社内で利用する。科学的研究や技術開発をサポートする拡張機能の開発などが目的だという。ニュース・リリースには、ニューフレアの山田裕和氏(描画装置統括部企画室 室長)のコメントが紹介されている。

 「GPGPUベースの電子ビーム技術は、当社の将来に向けた重点投資エリアである。D2SのTrueMask電子ビームシミュレーション技術のアプローチは広い範囲の応用性を備えている。そして、当社は、電子ビーム技術のエコシステム全体に貢献するために、その様なアプローチを採る企業の開発努力をサポートする」(同氏)。