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ナノテク技術で制作した寸法約20μmの記念ロゴ
ナノテク技術で制作した寸法約20μmの記念ロゴ
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 2014年に、日本とスイスは修好通商条約を締結してから150周年を迎える。この国交樹立150周年を記念したナノサイエンス分野のワークショップ「Swiss-Japanese Nanoscience Workshop: Materials Phenomena at Small Scale」が2013年10月9~11日の会期で茨城県つくば市の物質・材料研究機構(NIMS)で開催されている(関連ページ)。

 この中で、スイスIBM Zurich Research Laboratoryはナノテクノロジーを用いて制作した寸法約20μmの“記念ロゴ”について紹介する。詳しくは、「日本とスイスの150年間の友好関係を称えるささやかな方法」というタイトルのブログ記事に載っている。

 今回の微小ロゴは、IBM Zurich Research Laboratoryが2010年4月に発表した「世界最小の3次元地図」(関連記事)に用いた技術と同じ手法で作られた。具体的には、AFM(原子間力顕微鏡)のSi探針を加熱しながらポリマに押し当てることで、フライス盤のようにポリマを局所的に分解・除去することでロゴを描いた。その様子は、下記の動画で確認できる。

 ブログ記事によると、今回制作した記念ロゴは、スイスのグラフィック・デザイナー、Francesca Porro(フランチェスカ・ポッロ)氏がデザインしたもので、日本とスイスの大使館が実施したロゴ・コンペティションにおいて選定された作品である。また、加工にはスイスSwissLitho社のパターニング・ツール「NanoFrazor」を用いた。加工時間はわずか数分とする。