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“工場らしからぬ”雰囲気の「横河ミニマルアプリケーションラボ」。現在は、「コータ」、「デベロッパ」、「DLP露光機」、「深堀りエッチャ」、「パーティクルカウンタ」、「RCA洗浄機」、「SPM洗浄機」、「抵抗加熱炉(酸化)」、「集光加熱炉(シンタ)」、「SODコータ」の10機種を設置する。「レーザ加熱炉」を2016年7月設置予定。2017年までに32台設置する計画だ。装置の設置スペースや配管用の穴などが準備されていた。ブラインドで隠されている部分に、「酸・アルカリ・有機ドラフト」などの評価用設備がある。
“工場らしからぬ”雰囲気の「横河ミニマルアプリケーションラボ」。現在は、「コータ」、「デベロッパ」、「DLP露光機」、「深堀りエッチャ」、「パーティクルカウンタ」、「RCA洗浄機」、「SPM洗浄機」、「抵抗加熱炉(酸化)」、「集光加熱炉(シンタ)」、「SODコータ」の10機種を設置する。「レーザ加熱炉」を2016年7月設置予定。2017年までに32台設置する計画だ。装置の設置スペースや配管用の穴などが準備されていた。ブラインドで隠されている部分に、「酸・アルカリ・有機ドラフト」などの評価用設備がある。
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「シャトル」と呼ぶ赤いケースの内部に収められている0.5インチウエハー(直径12.5㎜)。シャトルは完全密閉構造のクリーンルーム仕様になっていて、装置間の搬送に使う。
「シャトル」と呼ぶ赤いケースの内部に収められている0.5インチウエハー(直径12.5㎜)。シャトルは完全密閉構造のクリーンルーム仕様になっていて、装置間の搬送に使う。
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コータの裏側。黄色透明の板で覆われている部分のうち、上部がウエハーに加工を施す部分。ウエハーが小さく、レジストなどの液体の滴下に使うのは注射器。黄色透明の板で覆われている部分のうち、下部に液体などを収める。使用量が少ないので、ボトルで供給している。
コータの裏側。黄色透明の板で覆われている部分のうち、上部がウエハーに加工を施す部分。ウエハーが小さく、レジストなどの液体の滴下に使うのは注射器。黄色透明の板で覆われている部分のうち、下部に液体などを収める。使用量が少ないので、ボトルで供給している。
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デモで「コータ」、「マスクレス露光」、「デベロッパ」を経たウエハーの拡大画像。左が線幅/線間隔=2μm/2μm、右は同1μm/1μm。
デモで「コータ」、「マスクレス露光」、「デベロッパ」を経たウエハーの拡大画像。左が線幅/線間隔=2μm/2μm、右は同1μm/1μm。
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 横河ソリューションサービスは、直径0.5インチ(12.5mm)の小型ウエハーを使う小型半導体製造装置シリーズ「ミニマルファブ」のデモ用ショールーム「横河ミニマルアプリケーションラボ」を2016年4月1日にオープンする。ミニマルファブは少量多品種のLSI製造に向けた半導体装置群で、産業技術総合研究所の主導の下、規格に従って各社が各工程向けの装置を開発しており、現時点で71機種が完成または完成予定という(ミニマルファブ関連記事1同2)。横河ソリューションサービスでは、これらのうちフォト工程を中心とする10機種を同ラボに設置し、ミニマルファブの導入を検討する顧客に向けて、試作などの要求に応える。同社では、ミニマルファブのいわば“ワンストップ窓口”となり、ミニマルファブのトータルコンサルティングとして、試作から導入・立ち上げ・運用・保守などのサービスを提供していく考えだ。

 同ラボの広さは約50m2で、会議室程度の大きさだ。現在、10機種のミニマルファブを設置し、フォト工程を中心に、エッチング、成膜の一部も行うことができる。例えば、MEMSのカンチレバーやMOSトランジスタなどを作ることが可能とする。今後、3~4年かけて装置を拡充し、前工程に向けた32機種をそろえる予定で、MEMSやディスクリート半導体、線幅0.5~1μmの微細加工でないLSIなどを作れるようになる見込み。また、同社の通常の半導体装置(いわゆる“メガファブ用”)のデモ用ショールームが隣室にあるため、試作でミニマルファブとメガファブの装置を組み合わせて利用することも可能とする。

 同ラボに対して、2016年度に3~4件、すでに予約が入っているという。ミニマルファブの利用を表明している半導体ファウンドリー「ネイタス」が問題点の洗い出しなどに利用するほか、ミニマルファブの導入を希望する電機メーカー、大学、工業専門学校などだ(ネイタス関連記事)。同ラボの利用は有償。同社の技術者をつけるかつけないかなど、使い方で料金体系は異なるとする。

 同ラボの目的は、ミニマルファブの普及に向けた、デモ、デバイス試作や評価だけではない。ミニマルファブでの量産を視野に入れた安定稼働技術の確立や装置改善、ミニマルファブのトレーニングセンターといった目的にも活用する予定という。