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タイトル | NEレポート:磁性薄膜をチップ上に形成し 内部の自家中毒を抑制:東北大学などが開発、Co−Zr−Nb膜でGHz帯の雑音を吸収 |
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掲載誌 | 日経エレクトロニクス2014/01/06号 (10~11ページ掲載) |
ページ数 | 2 |
要約 | 「ICの設計や製造技術を変えることなく、後から磁性薄膜を形成するだけでIC内で発生する雑音を抑制できる」(東北大学大学院 工学研究科 未来科学技術共同研究センター 教授の山口正洋氏)。 東北大学、神戸大学、ルネサス エレクトロニクス、NECの研… |
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